成都精密光學(xué)工程研究中心目前配備了三臺一米，三臺二米和一臺二點(diǎn)五米的環(huán)形平面拋光機(jī)，其中一米的設(shè)備主要加工Ф330毫米以內(nèi)的平面光學(xué)元部件，二米的設(shè)備主要加工Ф600毫米以內(nèi)的平面光學(xué)元部件，二點(diǎn)五米環(huán)拋設(shè)備主要用于Ф800毫米以內(nèi)的平面光學(xué)元部件。并且一米、二米的環(huán)拋設(shè)備均按照3臺一個(gè)機(jī)組配置，這樣的機(jī)組培植比單臺培植更有利于光學(xué)元部件面形的控制，使面形修正精度達(dá)到了用戶的要求，提高了工作效率，縮短了加工周期。
一米環(huán)拋設(shè)備和二米環(huán)拋設(shè)備主要由變頻器控制的調(diào)速電機(jī)、蝸輪蝸桿減速箱、基座、安放在平面軸承上的托盤、大理石及上面的拋光膜、校正盤、夾持用輔助工裝及可以檢查的正盤面形的帶翻轉(zhuǎn)裝置的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)組成。機(jī)床主軸轉(zhuǎn)速為0.3~3r/min。；該設(shè)備調(diào)整校正盤比較方便，視野開闊，上下被加工元件也比較方便，夾持器調(diào)整范圍比較大，翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)可以方便校正盤面形的檢測及在設(shè)備休整或停機(jī)時(shí)存放校正盤。由于校正盤夾持器較長，夾持器在工作中尤其是校正盤與拋光膠盤面形不吻合的時(shí)候容易出現(xiàn)顫抖，影響膠盤的修正及被加工件的加工。
2.5m環(huán)拋設(shè)備主要由調(diào)速電機(jī)、齒輪減速箱、基座、安放在大齒圈上的托盤、大理石及拋光膜、校正盤及夾持校正盤和工件的橫梁支撐結(jié)構(gòu)及其他輔助工裝組成。機(jī)床主軸轉(zhuǎn)速為0~4r/min。該設(shè)備設(shè)計(jì)時(shí)將主機(jī)部分與橫梁支撐結(jié)構(gòu)分離，減少了主機(jī)與衡量結(jié)構(gòu)相互間的互相影響，同時(shí)采用橫梁支撐結(jié)構(gòu)增大了校正盤的剛性。但校正盤和工件的調(diào)整比較煩瑣，在調(diào)整過程中臟東西容易掉在拋光膠盤上，使被加工件出現(xiàn)道子。在光學(xué)加工中尤其是精拋光時(shí)最忌諱被加工件出現(xiàn)道子，這將直接影響到加工質(zhì)量、效率及加工單位的信譽(yù)。
3.2.工藝實(shí)驗(yàn)
（1）方形元件的精細(xì)研磨。將方形元件用膠條或?qū)Ｓ霉ぱb上盤進(jìn)行精細(xì)研磨。一般大口徑光學(xué)元部件的精細(xì)研磨最后一道砂用W14金剛砂研磨，研磨時(shí)必須將兩面磨透，并將等厚控制在0.01以內(nèi)，面形微凹一些，有利于基板的拋光修面形精度。觀察表面砂眼粗細(xì)均勻，沒有新的道子及外傷。
（2）方形元件的初拋光�？蓪⒎叫卧�件用點(diǎn)膠上盤進(jìn)行初拋光。剛開始時(shí)應(yīng)該勤加拋光粉，拋光粉的濃度要大一些，以降低光學(xué)表面粗糙度和提高拋光效率，并在將光學(xué)元部件基板拋亮的過程中逐步修正面形精度，最終將面形控制在1.5λ左右，表面疵病控制在Ⅲ級。
（3）方形元件的環(huán)行精拋光。大口徑方形元件的精拋光采用環(huán)形拋光技術(shù)加工。在環(huán)形拋光過程中，首先需要膠盤的面形要良好，在上拋光工件之前就應(yīng)該將拋光膠盤修正到一定的精度，并且希望在加工過程中膠盤一直保持這種良好狀態(tài)，直到光學(xué)元部件達(dá)到所要求的精度為止。在實(shí)際加工的整個(gè)過程中，保持一致狀態(tài)是不太現(xiàn)實(shí)的，需要根據(jù)膠盤面形及工件面形的實(shí)際情況而定。通過調(diào)整校正盤的位置狀態(tài)，讓膠盤盡可能保持所需要的面形，以便高效地加工相應(yīng)的工件。方形元件在拋光過程中的情況如圖所示。
在實(shí)際的環(huán)行拋光加工過程中，總是將3臺一組的環(huán)拋機(jī)群中的一臺膠盤面形保持微凹，一臺膠盤面形保持微凸，一臺用作最后的面形修正。這樣可以針對不同初拋光的不同加工件的不同面形狀況選擇相應(yīng)的環(huán)行拋光機(jī)，節(jié)約修正膠盤面形的時(shí)間，提高工件的加工效率。