真空滅弧室尺寸的減小是真空技術、真空工藝、真空滅弧室設計發(fā)展的主要結果。而真空滅弧室管徑的縮小，結果使真空斷路器的整體尺寸大大減小，從而使真空斷路器趨于小型化。
5.二次技術現(xiàn)代化
真空斷路器的二次技術從傳統(tǒng)技術轉向現(xiàn)代技術�，F(xiàn)代二次技術采用了機電一體化技術。機電一體化技術是建立在微電子技術、信息傳感技術、計算機控制技術、伺服驅動技術及精密機械技術等高度發(fā)展之上的綜合技術。
機電一體化用在開關設備上，把計算機加入機械系統(tǒng)，使開關系統(tǒng)有了“大腦”，再加入“傳感器”采集信息，用光纖傳導信息，使開關系統(tǒng)有了“知覺”，大腦根據(jù)知覺作出判斷與決定，使系統(tǒng)有了“智能”。因此現(xiàn)代二次技術使之開關設備智能化。
開關設備的智能化，可通過連續(xù)檢測，確切了解運行狀況，作趨勢分析，識別存在的故障，從而采取必要的措施，防患于未然，改以往的“定期檢修”為“狀態(tài)檢修”，從而提高設備的利用率和節(jié)省檢修費用。
在斷路器二次現(xiàn)代化方面各大公司都作出了努力，歐洲幾家公司卓有成效。1996年AEG T&D公司在漢諾威博覽會上展出了DPI型真空斷路器。裝在側面操動機構內有集成保護裝置，其中包括一只微處理器和一只低能量脫扣器。ABB Calor Emag公司最新開發(fā)出REC580型保護與控制裝置，它屬于模塊式結構。與傳統(tǒng)裝置相比，這種現(xiàn)代控制和保護裝置擴大了功能，并降低費用約25%。西門子公司于1985年開發(fā)出第一個以微處理器為中心的數(shù)字保護裝置，1990年開發(fā)出第二代產品。 
真空斷路器之所以為眾多廠家青睞，除產量大、覆蓋面廣之外，首要原因是由于真空技術、真空工藝、滅弧室制造技術的不斷進步，使真空斷路器具有優(yōu)異的電性能和機械性能，能滿足不同用戶的不同要求。另一個重要原因，是它對環(huán)境友好，在人們普遍注重環(huán)保的今天，這點尤為重要。
在真空斷路器中，不產生分解物，因為在這里開斷時只產生金屬蒸汽。真空滅弧室絕對密封釬焊，不會與環(huán)境相互影響。污穢、灰塵及潮氣均不能進入滅弧室，這就避免了任何的氧化。滅弧室的所有材料均以潔凈的狀態(tài)保持在整個壽命期間。
真空滅弧室對外部作用具有良好的保護性。其殼體主要由氧化鋁陶瓷制作。由于它經受了高溫預處理，不受溫度變化的影響。