OpticStudio 14.2新版本功能介紹
OpticStudio 14.2 包含新的功能特性和重要的系統(tǒng)性能提升。
“功能查找器”也可通過用戶界面右上角的新“搜索”窗口獲取,“運(yùn)行功能”由箭頭圖標(biāo)表示,而“高亮顯示功能”則由放大鏡圖標(biāo)表示。 新的快捷鍵和快速訪問工具欄各項功能中都新增了搜索功能,“零件設(shè)計器”也有相當(dāng)于“功能查找器”的類似功能。 經(jīng)許多客戶請求后,還提供了 PDF 格式的“幫助系統(tǒng)” 用戶界面現(xiàn)在除了支持日語、德語和英語之外,還支持中文 新增優(yōu)化功能 GetOperand DDE 數(shù)據(jù)項目現(xiàn)在可報告多一位小數(shù)位,實現(xiàn)了更高的精度(僅限 Professional 和 Premium 版)。 XENC 和 XENF 優(yōu)化操作數(shù)現(xiàn)在支持波長參數(shù)。 MTFA、MTFS 和 MTFT 優(yōu)化操作數(shù)現(xiàn)在可報告真實數(shù)據(jù)和虛構(gòu)數(shù)據(jù)。 近軸高斯光束優(yōu)化操作數(shù)現(xiàn)在接受 M2 輸入值。 新增 GBPZ 優(yōu)化操作數(shù),可計算近軸高斯光束的瑞利范圍。 新增分析功能 通量 vs 波長分析現(xiàn)在支持 SDF 光源文件(僅限 Premium 版)。 圖像仿真算法擁有極大改善的算法,可處理超廣角系統(tǒng)中的畸變 物理光學(xué)傳播窗口現(xiàn)支持“傳播報告”選項卡,可直接訪問該重要工具(Professional 版和 Premium 版) 新增了一個按比例打印布局圖的選項,以及一個“最佳擬合”打印方向控件。該功能會根據(jù)要打印窗口的縱橫比,自動選擇“橫向”或“縱向”模式。兩個選項都在“配置選項...圖像”下方。 當(dāng)保存“分析”窗口到剪貼簿時,或保存為任何支持的文件格式時,會按屏幕上顯示的像素大小來保存該窗口。. 其它修改 由于缺少 .NET framework 框架的支持,取消了對導(dǎo)出 EMF (Enhanced Windows Metafile) 格式的圖形的支持,該功能已不再可用。 |
1.行業(yè)新聞、市場分析。 2.新品新技術(shù)(最新研發(fā)出來的產(chǎn)品技術(shù)介紹,包括產(chǎn)品性能參數(shù)、作用、應(yīng)用領(lǐng)域及圖片); 3.解決方案/專業(yè)論文(針對問題及需求,提出一個解決問題的執(zhí)行方案); 4.技術(shù)文章、白皮書,光學(xué)軟件運(yùn)用技術(shù)(光電行業(yè)內(nèi)技術(shù)文檔);
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