鋁是唯一從紫外到紅外(0.2～30μm)具有很高反射率的材料。大約在波長0.85μm 處反射率出現(xiàn)一極小值，其值為86%。鋁膜對(duì)基板的附著力比較強(qiáng)、機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性也比較好，所以廣泛用作反射膜。新沉積的鋁膜暴露于常溫大氣后，表面立即形成一層非晶的高透明的Al2O3 膜，短時(shí)間內(nèi)氧化物迅速生長到15～20.，然后緩慢生長，一個(gè)月后達(dá)到50 左右。對(duì)緩慢蒸發(fā)的鋁膜，氧化物的厚度可以達(dá)到90. 以上。氧化物的存在使鋁膜的反射率下降，特別是波長小于200nm 的區(qū)域，為此要用MgF2膜作保護(hù)層。在可見光區(qū)，通常用SiO 作為初始材料，蒸發(fā)得到硅的氧化物薄膜作為Al 膜的保護(hù)膜。最佳的制備鋁膜的條件：高純鋁(99.99%)；高真空中快速蒸發(fā)(50～100nm/s)；基板溫度低于50℃。

在可見光及紅外波段內(nèi)，銀膜的反射率是所有已知材料中最高的。在可見光區(qū)和紅外區(qū)，反射率分別達(dá)到95%和99%左右。但是，銀膜的附著力差，機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性差，所以主要用于短期使用的零件。銀膜在紫外區(qū)的反射率很低，在波長400nm 開始下降，到320nm 附近降到4%左右。當(dāng)銀膜暴露于空氣中時(shí)反射率會(huì)逐漸降低，主要原因是表面形成的氧化銀(AgO、Ag2O3)和硫化銀，因此要在銀膜上鍍保護(hù)膜。最佳的制備工藝與鋁的相似，即高真空、快速蒸發(fā)、低的基板溫度。

降低薄膜反射率的一個(gè)重要因素是散射。造成散射損耗的原因是多種多樣的，薄膜的成核和生長機(jī)理引起膜層微觀結(jié)構(gòu)的不均勻，從而會(huì)產(chǎn)生散射，借助于電子顯微鏡觀察多層膜斷面的微觀結(jié)構(gòu)，其呈現(xiàn)非常明顯的柱狀，膜層內(nèi)部充滿空隙，而面變得凹凸不平。此外，基片表面的粗糙度及其缺陷，還有蒸發(fā)源噴濺的粒子、膜層中的微塵、裂紋和針孔等因素相互交叉構(gòu)成復(fù)雜的散射模型。總的來說我們可以把散射歸結(jié)為二類，即體積散射和表面散射。

4.干涉截止濾光片

要求某一波長范圍的光束高透射，而偏離這一波長的光束驟然變化為高反射(或稱抑制)的干涉截止濾光片有著廣泛的應(yīng)用。我們把抑制短波區(qū)、透射長波區(qū)的濾光片稱為長波通濾光片。相反，抑制長波區(qū)、透射短波區(qū)的截止濾光片就稱為短波通濾光片。

大多數(shù)情況下，是希望截止短于某一特定波長，或者長于該波長的所有光線。通常的辦法是使干涉濾光片同吸收濾光片相組合。它既可以用作截止長波的短波通濾光片，也可以用作截止短波的長波通濾光片。只要改變監(jiān)控膜層厚度的波長，截止限的位置可以隨意移動(dòng)。