3. 設(shè)計(jì)膜系：設(shè)計(jì)不同膜系的技術(shù)

3.1 斜入射薄膜

3.2 顏色模型（三基色，色度，CIE L*A*B*, CIE L*U*V*，主波長(zhǎng)）

3.4 抗反膜

3.5 短波通/長(zhǎng)波通濾波器

3.6 帶通濾波器

3.7 干涉截止濾光片

3.8 窄帶濾光片

3.9 負(fù)濾光片

3.10 誘導(dǎo)傳輸濾波器

3.11 優(yōu)化： 

a) 優(yōu)化目標(biāo)

b) 優(yōu)化方法(簡(jiǎn)單優(yōu)化法，優(yōu)化，模擬退火法，共軛梯度法，四分之一牛頓法，插針法，差分進(jìn)化法)

c) 鎖層和層鏈接

d) 基底影響

e) 錐角和帶寬計(jì)算

f) 簡(jiǎn)單公差

4. Runsheet：在薄膜沉積過程中使用光學(xué)監(jiān)控器來計(jì)算目標(biāo)信號(hào)

4.1 簡(jiǎn)單光學(xué)監(jiān)控器的描述

4.2 工具因子

4.3 機(jī)器配置-指定鍍膜設(shè)備的特性

4.4 運(yùn)行表單-在制造過程中顯示目標(biāo)監(jiān)控信號(hào)

4.5 截止濾波器設(shè)計(jì)案例

5. Simulator：沉積過程建模決定運(yùn)行表單是否完整或?qū)φ`差敏感

5.1 在模擬器中不同類型的隨機(jī)誤差

5.2 光學(xué)監(jiān)控算法的控制

5.3 邊緣濾波器例子

6. 光學(xué)常數(shù)

6.1 導(dǎo)出薄金屬薄膜和其他吸收薄膜的光學(xué)常數(shù)

6.2 基底光學(xué)常數(shù)的提取

6.3 采用光譜測(cè)量來計(jì)算基底的光學(xué)常數(shù)

7. 反演工程

7.1 加工過程中兩種主要的誤差類型（系統(tǒng)誤差，隨機(jī)誤差）

7.2 采用反演工程來控制在實(shí)際加工制造過程中膜系設(shè)計(jì)的研究