人工晶體模擬研究
Zemax為設(shè)計師提供了一個很好的工具模型,可以分析大多數(shù)類型的人工晶體的性能。
下圖中,針對10 lp/mm處50%和50 lp/mm處50%的要求,在遠視和近眼處都可以看到當前的MTF數(shù)值。為了確認具體數(shù)值,可以打開“Text”選項進行查看。 看左圖10lp/mm和右圖50 lp/mm處,已經(jīng)滿足要求。如果需要所以都滿足,可以針對MTF進行優(yōu)化。 波前差指標為2.13 +/- 2um。我們可以通過“分析>波陣面>波前圖”。此波前差單位為波長單位,需要轉(zhuǎn)換為長度單位。 圖15.波前圖 最后,可以使用像模擬分析功能進行系統(tǒng)評估。此功能是對一個RGB位圖文件進行光線追跡,光線追跡之后得到一個RGB彩色圖像。這一功能有諸多應(yīng)用,比如模擬擴展光源、顯示畸變、成像效果等。菜單地址:Analyze>Extended Scene Analysis>Geometric Bitmap Image Analysis。下圖是0度視場的分析結(jié)果。 圖16.像模擬 |
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1.行業(yè)新聞、市場分析。 2.新品新技術(shù)(最新研發(fā)出來的產(chǎn)品技術(shù)介紹,包括產(chǎn)品性能參數(shù)、作用、應(yīng)用領(lǐng)域及圖片); 3.解決方案/專業(yè)論文(針對問題及需求,提出一個解決問題的執(zhí)行方案); 4.技術(shù)文章、白皮書,光學(xué)軟件運用技術(shù)(光電行業(yè)內(nèi)技術(shù)文檔);
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