實(shí)際上，光刻的原理不難，難還是主要難在光刻機(jī)的制造上。光刻機(jī)的鏡頭、光源生產(chǎn)、機(jī)械結(jié)構(gòu)，幾萬個(gè)小元件的調(diào)整與制造，任何一點(diǎn)拿出來都是某個(gè)領(lǐng)域最強(qiáng)者的獨(dú)門絕技。ASML（高端光刻機(jī)的壟斷者）的總裁溫彼得曾經(jīng)說過，如果說，光刻機(jī)鏡頭有整個(gè)德國那么大，那么形變最大的地方，不能高過一公分�？梢妼τ跈C(jī)器制造來說，這種要求是多么的苛刻。

光刻機(jī)的原理圖

全世界最高端的光刻機(jī)產(chǎn)自荷蘭的ASML公司，它是世界最高端的光刻機(jī)生產(chǎn)者，也是唯一的生產(chǎn)者。它所生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī)（EUV光刻機(jī)），可以前所未有地突破22納米制程限制，被稱為第五代光刻機(jī)。

AMSL生產(chǎn)的光刻機(jī)

我國在芯片領(lǐng)域落后國際良多，需要加速追趕。國內(nèi)量產(chǎn)精度最高的光刻機(jī)也不過90納米，實(shí)驗(yàn)室里也只能實(shí)現(xiàn)22納米。不過，中國科學(xué)院長春光機(jī)所在極紫外光刻方面首次完成了32nm光刻機(jī)的研制，在該方面邁出國內(nèi)第一步，為未來的研究打下了良好的基礎(chǔ)。