需要注意的是，雖然探測器接收到的莫爾條紋與原始位圖圖片中條紋方向相同，但是莫爾條紋的空間頻率比原始條紋明顯降低很多。其中，幻燈片中每四分之一部分的圖片包含50對條紋，也就是在整個寬度中包含100組條紋；探測器的像素?cái)?shù)量為125*125個。因此，對于一個40mm*40mm的圖像來說，幻燈片中的條紋間隔為40/100 = 0.4mm，探測器像素的空間頻率為40/125 = 0.32mm。由于條紋間隔比較相近（在兩倍之內(nèi)），因此我們可以觀測到莫爾條紋。在本例中，莫爾條紋的空間頻率為0.525線對每毫米。如果將幻燈片或探測器傾斜，您將看到更有趣的結(jié)果。

在系統(tǒng)中模擬莫爾條紋

接下來，本文會在上一節(jié)的基礎(chǔ)上將系統(tǒng)擴(kuò)展為透鏡成像系統(tǒng)。本文將序列模式下的示例系統(tǒng)導(dǎo)入到當(dāng)前系統(tǒng)中，使光源光線穿過幻燈片并發(fā)生散射。這是一個更貼近實(shí)際情況的光學(xué)系統(tǒng)，它模擬了光線經(jīng)過物體散射穿過透鏡系統(tǒng)后成像在探測器上的點(diǎn)對點(diǎn)成像過程。該過程可以在設(shè)計(jì)過程中模擬系統(tǒng)的莫爾條紋效應(yīng)。

首先打開雙高斯示例文件，該文件位于Zemax根目錄下Samples -> Sequential -> Image Simulation -> Example 2, Double Gauss Experimental.zmx，將該系統(tǒng)轉(zhuǎn)換到非序列模式下，使用OpticStudio中的“轉(zhuǎn)換到非序列 (Convert to NSC)”功能來完成。

然后，系統(tǒng)數(shù)據(jù)將顯示在非序列元件編輯器中，并且在物面位置處自動生成一個幻燈片物體。幻燈片物體位于光源和透鏡元件之間。將其散射屬性設(shè)置為朗伯 (Lambertian) 散射模型，這會使所有穿過幻燈片的光線發(fā)生散射。

最后，在幻燈片物體屬性的散射路徑模型中設(shè)置重點(diǎn)采樣，它會有效增加散射系統(tǒng)中到達(dá)探測器的光線數(shù)量。有關(guān)重點(diǎn)采樣的更多信息請參考我們的往期文章：如何有效的模擬散射。

經(jīng)過這些設(shè)置后非序列元件編輯器應(yīng)如下圖所示（為了顯示方便，一些列被折疊隱藏）：