3. VR、AR及HUD用光學(xué)薄膜

3.1 背景介紹

3.2 產(chǎn)品特性

3.3 典型VR系統(tǒng)光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)分析

3.4 典型AR系統(tǒng)光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)分析

3.5 典型HUD系統(tǒng)光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)分析

4. 防霧薄膜

4.1自清潔效應(yīng)

4.2 超親水薄膜

4.3 超疏水薄膜

4.4 防霧薄膜的制備

4.5 防霧薄膜的性能測(cè)試

5. 材料管理

5.1 光學(xué)薄膜材料性能及應(yīng)用評(píng)述

5.2 金屬與介質(zhì)薄膜

5.3 材料模型 

5.4 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取

5.5 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取

5.6 基板光學(xué)常數(shù)的提取

5.7 光學(xué)常數(shù)導(dǎo)出遇到的問(wèn)題及解決思路 

6. 薄膜制備技術(shù)

6.1 常見(jiàn)薄膜制備技術(shù)

6.2 光學(xué)薄膜制備流程

6.3 淀積技術(shù)

6.4 工藝因素

7. 誤差、容差與光學(xué)薄膜監(jiān)控技術(shù)

7.1 光學(xué)薄膜監(jiān)控技術(shù)

7.2 誤差分析與監(jiān)控決策 

7.3 Runsheet 與 Simulator應(yīng)用技巧 

7.4 膜系靈敏度分析 

7.5 膜系容差分析

7.6 誤差分析工具

8. 反演工程

8. 1 鍍膜過(guò)程中兩種主要的誤差（系統(tǒng)誤差和隨機(jī)誤差）

8.2 使用反演工程來(lái)控制對(duì)設(shè)計(jì)的搜索

9. 應(yīng)力、張力、溫度和均勻性工具 

9.1 光學(xué)性質(zhì)的熱致偏移 

9.2 應(yīng)力工具 

9.3 均勻性誤差(圓錐工具、波前問(wèn)題)