概述

這篇文章介紹了如何模擬一個部分反射的表面，該表面會根據(jù)指定的散射分布對一部分入射光能量進行散射。本文介紹的示例包含部分吸收以及部分鏡面反射的情況。本文使用的示例文件請從以下鏈接處下載：

https://customers.zemax.com/getattachment/OS/Resources/Learn/knowledgebase/How-To-Model-a-Partially-Reflective-and-Partially/Partial.zip

介紹

使用OpticStudio非序列模式模擬散射和膜層的能力，我們可以模擬一個部分反射（或部分透射）的表面，該表面會根據(jù)指定的分布散射入射光能量的一部分。

假設(shè)我們需要模擬一個表面為部分反射（60%反射）的矩形體 (Rectangle Volume) 物體，并且其中80%的反射光會根據(jù)朗伯 (Lambertian) 分布發(fā)生散射。剩下的20%將發(fā)生鏡面反射。通過使用三個非序列物體，本文的示例可以闡述了如何使用朗伯散射和理想膜層來產(chǎn)生所需的效果。

我們無需從零開始建立模型，請打開附件中的示例文件。在該文件中，一個單光線光源 (Source Ray) 物體發(fā)出的光線入射到矩形體的表面，其中矩形體的材料類型為MIRROR。從光源發(fā)出的光線完美的返回到光源并被探測器平面接收。在當前系統(tǒng)中，矩形體的表面沒有定義任何膜層或散射屬性。

通過不考慮偏振的蒙特卡洛光線追跡，單根光線照明了探測器最中間的像素并且該像素接收到的功率為1W。

建立理想膜層

有關(guān)在OpticStudio中定義和使用膜層的詳細信息，請查看幫助系統(tǒng)中的“Defining coatings in OpticStudio”一節(jié)。OpticStudio可以模擬任何類型的薄膜膜層，其中包括多層電介質(zhì)膜層和金屬膜層等。然而在本文中，我們將只討論如何在OpticStudio中建立和應用簡單的理想膜層。

和OpticStudio中的其他膜層相同，理想膜層是通過在膜層文件中定義材料、漸厚層以及膜層等部分的數(shù)據(jù)來進行定義的。對于一個理想膜層，其定義語法為：

IDEAL <name> <Transmitted Intensity> <Reflected Intensity>