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  • 光學(xué)系統(tǒng)的裝配公差分析

    作者:訊稷光電&黌論教育咨詢 來(lái)源:投稿 時(shí)間:2019-10-22 21:32 閱讀:8779 [投稿]
    本課程我們通過(guò)組裝單反相機(jī)中的光學(xué)部件與機(jī)械部件,通過(guò)蒙特卡洛的方法改變傾斜與離焦、不正確的機(jī)械和光學(xué)元件的位置分析對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的點(diǎn)列圖和MTF的影響。

    時(shí)間地點(diǎn)

    主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司(微信公眾號(hào):infotek);常熟黌論教育咨詢有限公司(微信公眾號(hào):honglun-seminary)

    授課時(shí)間:11月15(五) AM 9:00-PM 16:00

    授課地點(diǎn):上海市普陀區(qū)武威路88弄中鑫企業(yè)廣場(chǎng)21號(hào)樓A座2樓(黌論上海培訓(xùn)室)

    課程講師:訊技光電高級(jí)工程師

    課程費(fèi)用:1500RMB(包含課程材料費(fèi)、開(kāi)票稅金、午餐費(fèi)用)

    課程簡(jiǎn)介

    公差分析是指在滿本和最高的質(zhì)量制造產(chǎn)品。公差分析是面向制造和裝配的產(chǎn)品設(shè)計(jì)中非常重要的一個(gè)環(huán)節(jié),對(duì)于降低產(chǎn)品成本、提高產(chǎn)品質(zhì)量具有重大影響。本課程我們通過(guò)組裝單反相機(jī)中的光學(xué)部件與機(jī)械部件,通過(guò)蒙特卡洛的方法改變傾斜與離焦、不正確的機(jī)械和光學(xué)元件的位置分析對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的點(diǎn)列圖和MTF的影響。

    課程大綱

    1. 樣板及其重要性

    2. 制定光學(xué)系統(tǒng)公差的方法

    3. 綜合不同公差造成的像指下降的方法

    4. 公差的形式

    5. 調(diào)整參數(shù)

    6. 各種成本模型的典型公差

    7. 公差分析案例

    8. 表面不規(guī)則性

    9. 波前表面相干性與性能關(guān)系

    10. 均方根波前誤差和波前相關(guān)性對(duì)彌散斑直徑的影響

    11. 對(duì)MTF的影響(光學(xué)質(zhì)量因子)

    12. 光束直徑和表面不規(guī)則度

    13. 光學(xué)加工

    13.1 材料

    13.2 加工

    13.3 相對(duì)加工成本

    13.4 先期考慮因素

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