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    • Zemax OpticStudio 20.1.1新特性介紹

    作者：Zemax China 來源：投稿 時間：2020-02-26 18:29 閱讀：9965 [投稿]
    Zemax發(fā)布了王牌軟件 OpticStudio 的最新版本，OpticStudio 20.1.1 將用更加完備的公差分析功能，業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的自由曲面設(shè)計功能以及定制化功能來開啟嶄新的一年。

    3、客戶定制化功能

    根據(jù)Kogelnik和RCWA方法，提升了準確模擬體全息光柵和表面浮雕光柵方面的功能。正確地模擬這些衍射光學(xué)元件可以計算出衍射效率，從而在進行光線追跡或圖像模擬時能夠得到真實的結(jié)果。


    4、實驗性功能

    用戶還會注意到在OpticStudio 20.1.1中包含了一些新的實驗性功能。這些功能是我們計劃6月發(fā)布的版本中的一部分。我們鼓勵用戶嘗試這些功能并與我們分享使用反饋。

    Zemax 首席執(zhí)行官 S. Subbiah 博士表示：“在 OpticStudio 20.1.1 中，我們加入了能夠幫助用戶將他們的產(chǎn)品更快推向市場的新功能，這非常讓人振奮。我們發(fā)現(xiàn)我們的新老客戶都在公差分析、自由曲面設(shè)計方面有諸多需求。本次更新只是一個開始，我們將在接下來的一系列發(fā)布中聚焦于幫助我們的用戶更加高效地構(gòu)建更好的產(chǎn)品，同時降低生產(chǎn)成本�！�


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