3 國內(nèi)外光波導相控陣研究進展

國外在光學相控陣特別是光波導相控陣研究較早，主要是美國、歐洲以及日本。自從20世紀60年代微波相控陣技術(shù)問世以來，研究者做了大量的研究工作。

3.1 國外一維光波導相控陣的研究進展

光波導相控陣研究是從微波相控陣技術(shù)發(fā)展過來的，由于光波導相控陣技術(shù)波長更小，采用的技術(shù)和加工精度不同于微波相控陣技術(shù)，國外一維光波導相控陣的研究進展情況如表1所示。

表1.國外一維光波導相控陣的研究進展

由表1看出，隨著加工工藝的發(fā)展，光波導相控陣的尺寸越來越小、陣元間隔越來越小；控制電壓由千伏到毫伏量級；偏轉(zhuǎn)角度越來越大。

3.2 國外二維光波導相控陣的研究進展

二維光波導相控陣掃描是在一維的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，相比一維光波導相控陣，其器件更加復雜。研究發(fā)展進程如表2所示。

由表2可知，國外二維光波導相控陣的發(fā)展與工藝越來越緊密，隨著加工工藝的發(fā)展，相控陣模塊越來越小，陣元間距也越來越小，陣元的損耗越來越低，空間掃描的角度越來越大，實用性越來越強，已研制出光波導相控陣原理實驗樣機。

3.3 國內(nèi)光波導相控陣的研究進展

國內(nèi)在光波導相控陣方面的研究進展如表3所示。由表3看出，國內(nèi)在光波導相控陣研究還處于初期階段，由于光波導陣列器件加工工藝在國內(nèi)有限，控制系統(tǒng)由多組控制線的小規(guī)模集成電路構(gòu)成，性能和國外還有一段差距。

表2.國外二維光波導相控陣的研究進展

從國內(nèi)外光波導光學相控陣的研究進展可以看出，光波導光學相控陣集成度越來越高、掃描角度越來越大；控制方式由單級級聯(lián)控制到多級級聯(lián)控制、相控陣單元的傳輸損耗越來越小、控制電壓越來越小。