7. 雜散光分析

在紅外光學(xué)系統(tǒng)中，雜散輻射對成像質(zhì)量的 影響成為必須考慮的因素。折反二次成像系統(tǒng)的雜散光抑制可以采用以下方法：首先對于來自成像視場外的雜散光，可以采用主鏡遮光筒和次鏡遮光筒，內(nèi)外表面可以進一步加工消光螺紋，有效地減少一次及多次反射進入探測器的雜散光，通過設(shè)置主鏡鏡筒的長度可以控制入射到主鏡的視場外的雜光；其次利用二次成像部分，在一次成像面附近加入視場光闌限制入口的光束。

本文最后使用Lighttools，采用逆光路法，將有效光線和雜散光分離，最終得到了百分比表示的雜散光系數(shù)，分析時因為沒有實際測量各個表面的透射率，按照經(jīng)驗取2%的反射率，追跡107條光線，在右側(cè)接收器的光線能量占輸出總能量的96%，由此可以分析出，該光學(xué)系統(tǒng)的雜散光的能量占探測器接收能量的2%，可以滿足成像探測需求。

圖8.Lighttools光線追跡圖

8. 結(jié) 論

本文設(shè)計了一種緊湊型中波折反光學(xué)系統(tǒng)，用于多�；旌现茖�(dǎo)中，該系統(tǒng)遮攔比低，體積小，且成像質(zhì)量優(yōu)良，-50~70 ℃消熱差，公差分析結(jié)果顯示該系統(tǒng)滿足加工及裝調(diào)成像要求。本文最后提出了一些消雜散光的措施，使得該系統(tǒng)能夠有效抑制太陽背景輻射以及系統(tǒng)內(nèi)部雜散輻射，從而提高信噪比。

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