近日，華中科技大學(xué)武漢光電國(guó)家研究中心團(tuán)隊(duì)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破。團(tuán)隊(duì)研發(fā)的T150A光刻膠系列產(chǎn)品，已通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)原材料全部國(guó)產(chǎn)化，配方全自主設(shè)計(jì)，有望開(kāi)創(chuàng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。

半導(dǎo)體專用光刻膠普遍應(yīng)用于集成電路芯片制造中，電腦、手機(jī)、汽車電子、人工智能、光伏、鋰電等都離不開(kāi)它，產(chǎn)業(yè)應(yīng)用可謂十分廣泛。武漢光電國(guó)家研究中心團(tuán)隊(duì)研發(fā)的這款半導(dǎo)體專用光刻膠對(duì)標(biāo)國(guó)際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)稱之為“妖膠”的國(guó)外同系列某產(chǎn)品，T150A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，留膜率更優(yōu)，其對(duì)刻蝕工藝表現(xiàn)更好，通過(guò)驗(yàn)證發(fā)現(xiàn)T150A中密集圖形經(jīng)過(guò)刻蝕，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

團(tuán)隊(duì)在電子化學(xué)品領(lǐng)域深耕二十余載，立足于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)研究，致力于半導(dǎo)體專用高端電子化學(xué)品原材料和光刻膠的開(kāi)發(fā)，并以新技術(shù)路線為半導(dǎo)體制造開(kāi)辟新型先進(jìn)光刻制造技術(shù)，同時(shí)為材料的分析與驗(yàn)證提供最全面的手段。

該團(tuán)隊(duì)負(fù)責(zé)人表示：“以光刻技術(shù)的分子基礎(chǔ)研究和原材料的開(kāi)發(fā)為起點(diǎn)，最終獲得具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù)。這只是個(gè)開(kāi)始，我們團(tuán)隊(duì)還會(huì)發(fā)展一系列應(yīng)用于不同場(chǎng)景下的KrF與ArF光刻膠，致力于突破國(guó)外卡脖子關(guān)鍵技術(shù)，為國(guó)內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)帶來(lái)更多驚喜�！�