技术背景
随着极紫外光刻(EUV)、空间激光通信等领域的精度需求逼近物理极限,传统接触式加工已难满足需求。本文对比两种前沿工艺:
1. 反应离子束刻蚀(RIBE)
优势:
各向异性刻蚀(纵横比>10:1),适合微棱镜阵列加工原子级去除(0.1nm/cycle),理论面型精度可达λ/50
瓶颈:设备成本高(>200万美元)大曲率元件边缘刻蚀均匀性控制(需动态束流校正)2. 飞秒激光诱导等离子体加工(FLIP)
创新点:
利用非线性吸收效应(阈值~2J/cm²),实现亚波长结构直写加工热影响区(HAZ)1nm,需后续辅助抛光技术路线投票
您更看好哪种技术方向?
A) RIBE的确定性去除更适合量产
B) FLIP的多功能性适应复杂微结构
C) 其他(请回帖说明)