求各位大神指點迷津 uYMH5Om+i  
=fcRH:B:  
怎么才可以獲取正確的材料N值和K值 R:Tv'I1-L  
#waK^B)<a  
我現(xiàn)在的方法是鍍一個5k的膜，然后先測裸片監(jiān)控片的反射率，再測鍍膜后的監(jiān)控片反射率，導入到MAC里去算N和K，但是把材料回推回去看光譜還是和實測的光譜不一樣，這里面的原因是啥？ -MuKeCgi  
Azag*M?  
我的想法是機臺鍍膜隨著時間的推移每一層的膜N和K都不一樣。 6;p"xC-  
U~_G *0  
前題是我是用晶控去控制，不是光控。

我夜想知道！

同求�。。。。�

我是用穿透量測(吸收考量) W;ADc2#)  
鍍5Q膜厚 0;:AT|U/d  
先以macleod求出基板N與K ^9 {r2d&c  
再求出藥材N與K ;BjJ<?^{  

同求TFC計算  Tooling值的方法  

這個 可以探討,特別誤差在金屬上面例如TI等,誤差很大,真實的n和k導出來!我覺得主要根電子槍關(guān)系大,

5k?unit是什麼?5000nm? 2Ik@L,  
ffE&=eh)  
你設(shè)定厚度與實際厚度的誤差是多少? DU.[Sp  
E!v^j=h$u  
你用石英監(jiān)控當然不一定會那麼準阿?那也不會說誤差到找不到 e \ rb  
?ne!LDlE|  
另外你石英監(jiān)控的頻率是多少?新的大概6MHZ et0yS%7+?@  
dI|`"jl#  
再來 ?UV
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6  
1[r;  
你的材料是什麼?介電質(zhì)材料?金屬? PmT,*C`/X  
Lmw{ `R  
有吸收的材料你用MACLEOD是算不準的 HRZ3}8Qj  
HnmByn\j  
說到這邊其實還是要確定你的手法 ,1g*0W^  
+i.b&PF'H  
例如:你基板是套入你量的穿透嗎? A1nEp0%Y  
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你可能連基板都不對咧!! 1O]27"9  
w=S7zzL)  
去確認一下吧! 有問題再提出