摘要 v[7iWBqJ  
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VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)中已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn)，并且其重要性在提高。斜光柵通過特殊光學(xué)介質(zhì)實(shí)現(xiàn)，以此定義其一般性的幾何結(jié)構(gòu)。而且，幾個(gè)高級(jí)規(guī)格選項(xiàng)可用，例如，添加一個(gè)完整和部分涂層。這個(gè)案例解釋了配置的可用選項(xiàng)，并且討論了其對(duì)光柵結(jié)構(gòu)的影響。 :CeK 'A\  
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介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) $yn7XonS  
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 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。 yjF;%A/0  
 可用于設(shè)置復(fù)雜光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)（所謂的堆棧）和傅里葉模式法（FMM）分析。 icrcP ~$A  
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斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 2iWSk6%R  
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 斜光柵介質(zhì)為周期性結(jié)構(gòu)自定義提供很多選項(xiàng)。 p{vGc-zP.  
 首先，光柵脊和槽的材料必須在基礎(chǔ)參數(shù)選項(xiàng)中定義。 *2T"lpl  
 這些材料既可以從材料目錄選擇，也可以通過折射率定義。 hl/) 1sOIR  
斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 sk%Xf,  
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 在材料設(shè)置下面，可以定義光柵的幾何結(jié)構(gòu)。 c%+_~iBUN  
 以下參數(shù)可用： ymW? <\AD,  
- 填充率（定義光柵的上部分和下部分） e0$.|+  
- z擴(kuò)展（沿著z方向測(cè)量光柵高度） Dq~\U&U\$  
- 傾斜角度左（脊左側(cè)的傾斜角） v[2N-  
- 傾斜角度右（脊右側(cè)的傾斜角） `DFo:w!k  
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如果傾斜角相同，通過點(diǎn)擊不等號(hào)關(guān)聯(lián)兩個(gè)設(shè)置。 D#k ~lEPub  
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斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 h}U>K4BJ  
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