實(shí)驗(yàn)八 真空蒸發(fā)鍍膜 \lKQDct. -  
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真空鍍膜屬于薄膜技術(shù)和薄膜物理范疇,廣泛應(yīng)用在電真空，電子學(xué)、光學(xué)、能源開(kāi)發(fā)、現(xiàn)代儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)、以及原子能工業(yè)和空間技術(shù)中。它可以用來(lái)鍍制微膜組件，薄膜集成電路，半導(dǎo)體集成電路等所需的電學(xué)薄膜；光學(xué)系統(tǒng)中需要的反射膜，透設(shè)膜，濾光膜等各種光學(xué)薄膜；輕工業(yè)產(chǎn)品的燙金薄膜等等。由于真空鍍膜技術(shù)的迅速發(fā)展，從而使電子計(jì)算機(jī)的微型化成為可能，促進(jìn)了人造衛(wèi)星，火箭和宇航技術(shù)的發(fā)展。 }[LK/@h