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    [求助]基于面光源的光學(xué)元件熱分析 [復(fù)制鏈接]

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    離線kuailezj
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2005-10-21
    問個問題,我設(shè)計了一個面光源,給他定義了40w,想計算一下我的光學(xué)元件的受熱分析 >;G7ty[RX7  
    不知道tracepro怎么實現(xiàn),為什么我改變光源的瓦數(shù),強度圖沒有變化呢 I(>_as\1  
    還有就是,光學(xué)元件在沒有光照射的時候應(yīng)該保持環(huán)境溫度吧,當(dāng)有光入射時,光學(xué)元件的溫度也應(yīng)該是隨時間變化的吧,在tracepro中能不能實現(xiàn),怎樣實現(xiàn)呢 lib^JJF  
    希望有人能回答我,多謝
     
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    離線flashcat
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2005-10-21
    改變光源瓦數(shù)變化,雖然強度圖沒有變,但是數(shù)據(jù)應(yīng)該變了.你可以改變光線條數(shù),看看. yp hd'Pu"  
    要進行熱分析比較麻煩吧,沒有做過,估計要使用溫度分布方面的設(shè)置吧.
    離線arkshell
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2005-10-21
    受熱分析,在TP里面只有分析光學(xué)元件的面了——通過這些面收集到的光線的信息。。。 3D,tnn+J  
    r"7 !J[u  
    改變瓦數(shù)而不改變光學(xué)結(jié)構(gòu),那么結(jié)構(gòu)的光學(xué)規(guī)律也沒改變,所以強度圖的分布依然不變,只是數(shù)字改變了。。。 UHI<8o9