摘要：深紫外光刻是目前集成電路制造的主流方法，為實現(xiàn)更小的元件特征尺寸，必須采用浸沒式投影物鏡以提高光學系統(tǒng)的分辨率，由此向其中的薄膜光學元件提出了眾多苛刻的要求。本文的討論由此展開：介紹了適用于浸沒式光刻系統(tǒng)的薄膜材料及膜系設計，以及高NA光學系統(tǒng)所需的大角度保偏膜系；物鏡中最關鍵的元件為浸液元件，對浸液薄膜的液體環(huán)境適應性及疏水、防污染等關鍵問題進行了討論；激光輻照壽命是衡量浸沒式光刻系統(tǒng)性能的重要因素，對鍍膜元件的激光輻照性能，尤其是浸液環(huán)境下的元件輻照壽命進行了分析。     }ZmdX^xB  
關鍵詞 ： 浸沒式光刻,  光學薄膜,  膜系設計,  環(huán)境適應性,  激光輻照壽命  

一直都想學習這個領域的知識

挺好的

浸液這個是臺灣人提出來的概念，其實在研發(fā)上， $($SQZK&  
創(chuàng)意無限的中國人比循規(guī)蹈矩的日本人要更有辦法。

好東東！ 'AAY!{>  

xuexile

學習下

謝謝分享

浸沒式投影系統(tǒng)原理簡單，但是實際量產過程中肯定困難重重。

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