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    [求助]鍍完膜后發(fā)霧 [復(fù)制鏈接]

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    離線liuwenbo1991
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2018-10-17
    基材：SI片  膜料：GE+ZNS  鍍膜波段近紫外到14um，電子槍蒸發(fā)鍍膜，Mark II+離子源。鍍完膜后SI片發(fā)霧，通過調(diào)節(jié)鍍膜工藝（包括鍍膜溫度，材料沉積速率，離子源參數(shù)等等后依然發(fā)霧，哪位大咖有遇到過這種問題，幫忙解惑，謝謝
     
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    離線rexchou
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2018-10-19
    之前遇過發(fā)霧情況,是離子源被汙染到. |Om9(xT  
    請參考~
    離線ouyuu
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2018-10-20
    我覺得可能是MARKii離子源能量不夠造成的。 {iCX?Sb  
    MARK II離子源的特性是電流很大，電壓不高。 {9) HB:  
    離子束的密度（電流）夠了，但是離子速度（電壓）不夠的話， w_;$ahsu~  
    結(jié)晶大小還是沒法改變。 56u_viZ=8  
    kIe)ocJg