摘要:為滿足大氣輻射系統(tǒng)中光學元件的使用要求,即可見與近紅外波段高透過,根據雙有 效界面法設計原理配合膜系軟件設計膜系,采用離子輔助沉積,電子束真空鍍膜的方法,通過 對工藝參數的調整和監(jiān)控方法的改進,制備400~1200 nm寬帶增透膜。所鍍膜層在垂直入射 時,400~1200 nm波段平均反射率小于 1%。同時對膜層牢固性進行了測試,滿足大氣輻射系 統(tǒng)的使用要求。 i$Z#9M9
y\PxR708
關鍵詞:光學薄膜;大氣輻射系統(tǒng);寬帶增透膜;離子輔助