摘要：為了快速獲取不平整度達數(shù)微米量級的
光學表面面形分布，提出一種基于變傾角移相的斜入射動態(tài)
干涉儀方案。 基于邁克耳遜
干涉儀主光路
系統(tǒng)，采用 2×2 點
光源陣列，通過精確控制各點光源在干涉腔的入射傾角，引入等間隔移 相，結(jié)合
透鏡陣列實現(xiàn)空間分光，在單個
CCD 上同時采集四幅移相干涉圖，實現(xiàn)動態(tài)測量。在 68°斜入射角下測量了 口徑 35 mm 硅片的平整度，均方根(RMS)值為 1.631 μm，峰谷(PV)值為 9.082 μm。實驗結(jié)果表明，將變傾角同步移 相技術引入斜入射干涉系統(tǒng)，可以克服環(huán)境震動的干擾，在保證高
精度的前提下拓寬了可見光干涉儀的測量范圍。
r{yI F~k@ wMF1HT<* 關鍵詞：干涉測量；斜入射；動態(tài)干涉儀；表面平整度
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