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泛林和ASML研發(fā)EUV新技術(shù):可減少90%光刻膠用量

發(fā)布:cyqdesign 2020-02-29 22:03 閱讀:8931
近日,美國泛林公司宣布與 ASML 阿斯麥、 IMEC 比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV 光刻技術(shù),不僅提高了 EUV 光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能,還將光刻膠的用量最多降至原來的 1/10 ,大幅降低了成本。 @m/;ZQ  
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泛林 Lam Research 的名字很多人不清楚, 前不久中芯國際宣布的 6 億美元半導體設備訂單就是購買的泛林的產(chǎn)品 。 CrNwALx  
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泛林是一家美國公司,也是全球半導體裝備行業(yè)的巨頭之一,與應用材料、 KLA 科磊齊名, 2019 年營收 95 億美元,在全球半導體裝備行業(yè)位列第四,僅次于 ASML 、 TEL 日本東京電子及 KLA 。 %R.xS} Q  
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泛林生產(chǎn)的設備主要是蝕刻機、 CVD (化學氣相沉積)、清洗、鍍銅等設備,其中來自中國市場的客戶是第一大來源。 q6C6PPc  
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這次取得重大突破的不是半導體裝備,而是 一項用于 EUV 光刻圖形化的干膜光刻膠技術(shù) ,而光刻膠是半導體生產(chǎn)中最重要的原料之一,尤其是 EUV 光刻膠,門檻極高,全球僅有幾家公司能產(chǎn)。 ':!3jZP"m  
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泛林表示, 全新的干膜光刻膠技術(shù)將有助于提高 EUV 光刻的分辨率、生產(chǎn)率和良率 。 J7'f@X~nM  
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泛林集團的干膜光刻膠解決方案提供了顯著的 EUV 光敏性和分辨率優(yōu)勢,從而優(yōu)化了單次 EUV 光刻晶圓的總成本。 kfqpI  
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根據(jù)泛林所說,全新的干膜光刻膠應用和顯影技術(shù)可以實現(xiàn)更低的劑量和更高的分辨率,從而增加生產(chǎn)率并擴大曝光工藝窗口。 +9CEC1-l  
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此外, 通過將原材料的用量降低至原來的五分之一到十分之一 ,泛林集團的干膜光刻膠技術(shù)不僅為客戶大幅節(jié)省了運營成本,同時還為環(huán)境、社會和公司治理提供了一種更加可持續(xù)的解決方案。
關鍵詞: ASML光刻光刻膠
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最新評論

星空38 2020-03-01 09:08
光刻膠的用量最多降至原來的 1/10 ,大幅降低了成本
不懂想問 2020-03-01 10:15
研發(fā)EUV新技術(shù)!
歸屬310 2020-03-01 10:19
良心企業(yè)啊
wangjin001x 2020-03-01 11:20
泛林和ASML研發(fā)EUV新技術(shù):可減少90%光刻膠用量
譚健 2020-03-01 11:28
良心企業(yè)
songshaoman 2020-03-01 11:43
實驗室數(shù)據(jù)?
木子示羊 2020-03-01 14:02
EUV厲害
mmttxiaoxiao 2020-03-01 15:22
期待中國企業(yè)的表現(xiàn) hcyn