1. 摘要
~ vVsxC$. s5s'$|h" 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦
仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。
VirtualLab可以非常便捷地對此類
鏡頭進行
光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用
相機探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應(yīng)的理解。
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u_C/Y[ik k-v@sb24_ 2. 建模任務(wù)
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