1. 摘要
*H[Iq!@ +-B^Z On 高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術(shù)。因此,聚焦
仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。
VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類(lèi)
鏡頭進(jìn)行
光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用
相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究,進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。
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8L*GE 2. 建模任務(wù)
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.c 0 'Vg6E]/ Ys8SDlMo 9dzdrT 3. 概述
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a 0[<~?`:) 示例
系統(tǒng)包含了高
數(shù)值孔徑物鏡 H[b}kZW:a 下一步,我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。
N S#TW s6o>m*{ *;|`E( VYw%01# 4. 光線追跡仿真
_owjTo} `c+/q2M 首先,選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。
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