中國造出首臺(tái)自主新式光刻機(jī) 未來可造10nm芯片
iuA_Jr s\< @v7A 北京時(shí)間11月29日,中科院光電技術(shù)研究所宣布國家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收,成為全球首臺(tái)用紫外光源實(shí)現(xiàn)的22納米分辨率的光刻機(jī)。
dUUg}/ 6Jq3l_ 據(jù)中國《科技日?qǐng)?bào)》報(bào)道,中科院光電技術(shù)研究所項(xiàng)目副總師胡松透露,新驗(yàn)收的光刻機(jī),使用了365納米紫外光的汞燈,一只費(fèi)用僅為數(shù)萬元,而光刻機(jī)整機(jī)價(jià)格在百萬元至千萬元級(jí)。
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Ums-b 胡松還說,中科院光電技術(shù)研究所研制的光刻機(jī)加工能力介于深紫外級(jí)和極紫外級(jí)之間,“讓很多用戶大喜過望”。
/|lAxAm? ^X?uAX-RP| 全新路線,完美避開國外廠商專利
xS:n gWL`J=DiU 光刻機(jī)是集成電路制造業(yè)的核心角色。光刻機(jī)相當(dāng)于一臺(tái)投影儀,將精細(xì)的線條圖案投射于感光平板,光就是一把雕刻刀。但線條精細(xì)程度有極限——不能低于光波長的一半!肮馓郑T縫太窄,光就過不去了!眳⑴c研究的科學(xué)家楊勇告訴記者。
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