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摘要 >_j(uw?u JWHsTnB 高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線(xiàn)和光場(chǎng)追跡分析。 通過(guò)光場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱(chēng)焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。 8Yc-3ozH
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faO iNR7;h 建模任務(wù) GP+=b:C{E
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 i6yA>#^ c&PsT4Wh 入射平面波 5& %M L 波長(zhǎng) 2.08 nm Q m *z 光斑直徑： 3mm T"99m^y 沿x方向線(xiàn)偏振 G^{~'TZv% }`CF(Do 如何進(jìn)行整個(gè)系統(tǒng)的光線(xiàn)追跡分析？ Gy
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