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摘要 wyMj^+ 2m x24 干涉測量法是光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。 它被廣泛用于例如,表面輪廓、缺陷、高精度的機(jī)械和熱變形。 作為一個(gè)典型示例,在VirtualLab Fusion中借助非序列場追跡,構(gòu)建了具有相干激光光源的Mach Zehnder干涉儀。 證明了光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。 Ayadvi(@P s"*zyLUUo
mA|!IhM c6:"5};_ 建模任務(wù) 7q<I7Wt !i&^H, lUJ/ nG0l /8VM.fr$ 元件傾斜引起的干涉條紋 K{%}kUj> ^z-e"
ZTfs&5 :<YcV#!P 元件移動(dòng)引起的干涉條紋 ++W_4 B! }eX
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