摘要：均勻照明是投影光刻機中實現(xiàn)光刻線條高度均一性的重要條件。采用微透鏡陣列作為照明勻光器件，能夠 在實現(xiàn)矩形照明光斑的同時獲得極高的遠場分布均勻性�；�于微透鏡陣列現(xiàn)有的加工工藝，設計出二維方向分開 的柱面微透鏡陣列，并通過優(yōu)化設計，克服了微透鏡之間的接縫在遠場光場處產(chǎn)生的中心亮線。仿真分析表明，所 設計的微透鏡陣列的遠場分布不均勻性達到0.85％。 A}9Z%U