摘要：均勻
照明是
投影光刻機中實現(xiàn)光刻線條高度均一性的重要條件。采用微
透鏡陣列作為照明勻光
器件，能夠 在實現(xiàn)矩形照明光斑的同時獲得極高的遠(yuǎn)場分布均勻性�；谖⑼哥R陣列現(xiàn)有的加工
工藝，設(shè)計出二維方向分開 的柱面微透鏡陣列，并通過
優(yōu)化設(shè)計，克服了微透鏡之間的接縫在遠(yuǎn)場光場處產(chǎn)生的中心亮線。
仿真分析表明，所 設(shè)計的微透鏡陣列的遠(yuǎn)場分布不均勻性達(dá)到0.85％。
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