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    [推薦]高NA物鏡聚焦的分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2020-08-27
    摘要 b\;QR?16R  
    -8TJ~t%w4  
    高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 XvdK;  
    vguqk!eo4  
    ~}TVM%0RTq  
    ]Q)TqwYF  
    建模任務(wù) U>:p`@  
    6%fU}si,  
    ,rTR |>Z  
    概觀 ,',fO?Qv'  
    V:l; 2rW  
    jPbL3"0A&  
    光線追跡仿真 eQYW>z'%,  
    [%bshaY:  
    •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 Cu9,oU+N  
    ."=Bx2  
    •點擊Go！ b},OCVT?  
    •獲得3D光線追跡結(jié)果。 >r{,$)H0  
    7e u7ie6  
     )b5MP1H  
    N-vr_4{g  
    光線追跡仿真 6Lz&"C,`  
    GL (YC-{  
    WRD^S:`BH  
    •然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。 D4 e)v%  
    •單擊Go！ BDcl1f T  
    •結(jié)果，獲得點列圖（2D光線追跡結(jié)果）。     !5p 01]7  
    @dO~0dF  
    |n* I}w^  
    !f"@pR6  
    場追跡仿真 h`jtmhoz  
    )8P<ZtEU  
    jQ`cfE$sV  
    •切換到場追跡并選擇“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為仿真引擎。 JkpA \<  
    •單擊Go！     oBIKt S*L  
    79S=n,O  
    w' U;b  
    u*PN1E  
    場追跡結(jié)果（攝像機(jī)探測器） Is%-r.i  
     3D%I=p(  
    g3"`b)M  
    •上圖只顯示整合了Ex和Ey場分量的強度。 _L&C4 <e'  
    •下圖顯示整合了Ex，Ey和Ez分量的強度。 ?;}2 Z)  
    Ez分量：由于在高NA情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。 `_z8DA}E  
    /S