摘要：無論是源于人類本身對未知世界探索的渴望， 還是現(xiàn)代工程技術(shù)的各種需要，對微觀領(lǐng)域的高分辨率
成像都是一個十分重要的研究方向， 故本文對國內(nèi)外
光學(xué)超分辨技術(shù)研究的歷史和現(xiàn)狀做出綜述是十分必要的。
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1b ZmqKQO 一、 背景及意義 D>r&}6< Z3e| UAif 人類對未知領(lǐng)域的探索永遠是促進科學(xué)進步的最強大動力。 在眾多未知領(lǐng)域中我們身邊的微觀世界無疑是最令人著迷的。在這一領(lǐng)域中既涉及到生物細胞、遺傳基因這些關(guān)乎我們自身的重要元素， 又涉及到分子結(jié)構(gòu)、 基本粒子這些構(gòu)成我們關(guān)于物質(zhì)知識的核心命題。 也只有對微觀世界的深入研究才能讓我們回答諸如什么是人類能夠觀測的最小尺度， 宇宙是否存在物質(zhì)的最小極限這樣的物理學(xué)中的基本問題。 而研究往往始于觀察， 成像又是觀察的最基本手段。 所以尋找對微觀物質(zhì)高分辨率成像的方法， 制造對微觀物質(zhì)高分辨率成像的儀器， 就成為了研究微觀領(lǐng)域必不可少的首要一環(huán)。 正是推動科學(xué)本身進步這一要求， 使科研人員不斷地采用各種各樣的技術(shù)革新來盡可能地提高觀測系統(tǒng)的分辨率和有效信息獲取量，并盡可能地重建和恢復(fù)原始自然圖像， 以滿足人類對未知的微觀世界知識獲取的渴望。
>~rTqtKd a~`eQ_N D 另一方面，在技術(shù)層面上， 隨著許多新興的超精密工程學(xué)的發(fā)展， 人們提出了
納米 級與 亞納 米級 分辨率 成像 的要 求。 如在巨 大規(guī) 模集 成電 路（ GigaScaleIntegration circuits ）制造中，已經(jīng)開始使用 32nm工藝，并且正在開發(fā)22nm 工藝；在納米技術(shù)的研究中，從上世紀七十年代，首先提出使用單分子作為電子器件開始， 到現(xiàn)在研制中的各種微納機電系統(tǒng)， 各個研究對象的線度也都在數(shù)微米到幾納米之間； 而在現(xiàn)代生物科技和現(xiàn)代醫(yī)學(xué)技術(shù)的發(fā)展中， 人們不但提出了對大生物分子在納米級和亞納米及三維成像的要求， 甚至還希望能對活性樣品進行動態(tài)檢測和顯微操作。 這就要求圖像和數(shù)據(jù)同步、 動態(tài)地顯示在我們面前。
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