據(jù)TOMSHARDWARE報道，臺積電表示其部署的極紫外光(EUV)光刻工具已占全球安裝和運行總量的50%左右，這意味著其使用的EUV機器數(shù)量超過了業(yè)內(nèi)其他任何一家公司。為了保持領(lǐng)先，臺積電已經(jīng)下單訂購了至少13臺ASML的Twinscan NXE EUV光刻機，將會在2021年全年交付，不過具體的交付和安裝時間表尚不清楚。 
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同時，明年臺積電實際需求的數(shù)量可能是高達16到17臺EUV光刻機。  d
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目前，臺積電使用ASML的Twinscan NXE EUV光刻機在其N7+以及N5節(jié)點上制造芯片，但在未來幾個季度，該公司將增加N6（實際上將在2020年第四季度或2021年第一季度進入HVM）以及同樣具有EUV層的N5P工藝。臺積電對EUV工具的需求正在增加是因為其技術(shù)越來越復(fù)雜，更多地方需要使用極紫外光刻工具處理。臺積電的N7+使用EUV來處理最多4層，以減少制造高度復(fù)雜的電路時多圖案技術(shù)的使用。 @wAYhnxq  
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根據(jù)ASML的官方數(shù)據(jù)，2018年至2019年，每月產(chǎn)能約4.5萬片晶圓（WSPM），一個EUV層需要一臺Twinscan NXE光刻機。隨著工具生產(chǎn)效率的提高，WSPM的數(shù)量也在增長。如果要為一個準備使用N3或更先進節(jié)點制造工藝的GigaFab（產(chǎn)能高于每月10萬片）配備設(shè)備，臺積電在該晶圓廠至少需要40臺EUV光刻設(shè)備。 V*%><r  
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ASML最新推出的Twinscan NXE:3400B和NXE:3400C光刻系統(tǒng)價格相當昂貴。早在10月份，ASML就透露，其訂單中的4套EUV系統(tǒng)價值5.95億歐元(約合7.03億美元)，因此單臺設(shè)備的成本可能高達1.4875億歐元(1.7575億美元)。也就是說，13套EUV設(shè)備可能要花費臺積電高達22.84億美元。 e*D,2>o  
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