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請(qǐng)問(wèn)FRED這套軟件針對(duì)一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過(guò)LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個(gè)面的光均勻度)？LGP上會(huì)印刷光學(xué)級(jí)油墨點(diǎn)(Pattern)，我們會(huì)控制Pattern直徑的大小，來(lái)控制整個(gè)背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？ iT5SuIv
d:pm|C|F
Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 bM^A9BxD
8.Ef
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