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摘要 P
DY :?/ $Z;8@O3
0y$VPgsKf N/F_,>E 干涉測(cè)量法是一項(xiàng)用于光學(xué)測(cè)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓、缺陷、機(jī)械和熱變形的高精度測(cè)量。作為一個(gè)典型示例,在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下,于 VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-澤德干涉儀。該例證明了光學(xué)元件的傾斜和位移對(duì)干涉條紋圖的影響。 9gA@D%0 B=*0 建模任務(wù) Aq(cgTNW r??_2>Q
O^\:J2I( 4Yvz-aSyO 由于組件傾斜引起的干涉條紋 9U; EPW4
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3~fi#{ <SJ6<' 由于偏移傾斜引起的干涉條紋 @MibKj>o ^;
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