高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學(xué)顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時，焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應(yīng)，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。 H"~]|@g-p
^.']-XjC 高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析
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: Z 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微系統(tǒng)等。在對焦斑的模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 G-5wv
*Ru@F: 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡系統(tǒng)的先進(jìn)點擴(kuò)散函數(shù)計算
L`$m<9w' 當(dāng)線性偏振高斯光束經(jīng)高數(shù)值孔徑(NA)非球面透鏡聚焦時，由于矢量效應(yīng)，焦平面上的PSF呈現(xiàn)非對稱性。 rgth2 y] #9HQW:On
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