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    [技術(shù)]分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-06-28
    高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場(chǎng)，也可以深入研究矢量效應(yīng)。 Y hC|hDC  
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    建模任務(wù) eg1F[~YL/  
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    概述 HIC!:|  
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    •案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。 1-&L-c.  
    •接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。 {];-b0MS~  
    vJV/3-yX  
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    光線追跡仿真 c& bms)Jwa  
    Fmz+ Xb  
    •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。 i$<")q  
    •單擊go！ 1MT,A_L  
    •獲得了3D光線追跡結(jié)果。 Ndgx@LTQQ  
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    光線追跡仿真 &|db}\jT  
    V w58w`e  
    •然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。 EbVva{;#$;  
    •單擊go！ ZmNNR 1%/  
    •結(jié)果得到點(diǎn)圖（二維光線追跡結(jié)果）。 ItZYOt|Hn  
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     ^H{YLO  
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    場(chǎng)追跡仿真 ,VSO;:Z  
    UT9u?  
    •切換到場(chǎng)追跡，然后選擇“第二代場(chǎng)追跡”作為模擬引擎。 ]^>:)q  
    •單擊go！ x{tlC}t  
    V*@Y9G  
    a7453s  
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    場(chǎng)追跡仿真（相機(jī)探測(cè)器） t8rFn  
    T#*H  
    •上圖僅顯示Ex和Ey場(chǎng)分量積分的強(qiáng)度。 BenyA:W"  
    •下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強(qiáng)度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對(duì)較大，因此可見明顯的不對(duì)稱性。 `|nCnT'  
    v\@RwtP  
     gq/Za/ !6  
    X{OWDy  
    場(chǎng)追跡仿真（電磁場(chǎng)探測(cè)器） =WBfaxL}