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    [產(chǎn)品]《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》(原著第二版) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-07-14
                                                                                                      2022新書強(qiáng)烈推薦 ?,/U^rf^4  
    IsR!'%Pu  
    內(nèi)容簡(jiǎn)介 @V!r"Bkg.  
    Macleod軟件自帶的用戶手冊(cè)功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專業(yè)書籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。 g:EVhuK  
    《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié),結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實(shí)用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問題,如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合,從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來,對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議,以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。 08*v~(T  
    薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書中并附設(shè)計(jì)光盤和參考文獻(xiàn),有興趣者可依此深入研究,為精準(zhǔn)起見,在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限,書中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免,本書若有不周之處,尚請(qǐng)讀者不吝賜教。 0]4(:(B  
    4WK3.6GN  
    訊技科技股份有限公司
    2015年9月3日
    W 5R\Q,x6  
    目錄 j)q\9#sI/(  
    Preface 1 2it?$8#i  
    內(nèi)容簡(jiǎn)介 2 )+fh-Ui  
    目錄 i c%qv9   
    1  引言 1 ,~._}E&9I  
    2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 "Iix )Ue  
    2.1  一般規(guī)則 2 H*r>Y  
    2.2  正交入射規(guī)則 3 %.vVEy  
    2.3  斜入射規(guī)則 6 c_>f0i  
    2.4  精確計(jì)算 7 $kQ~d8 O  
    2.5  相干性 8 {^N[("`  
    2.6 參考文獻(xiàn) 10 ~ar=PmYV7  
    3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 KZeQ47|  
    4  Essential Macleod的特點(diǎn) 32 $.bBFWk  
    4.1  容量和局限性 33 ZWS`\M  
    4.2  程序在哪里? 33 SCTA=l.  
    4.3  數(shù)據(jù)文件 35 ZzX~&95G  
    4.4  設(shè)計(jì)規(guī)則 35 \nP>:5E1  
    4.5  材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 e#k<d-sf6  
    4.5.1材料損失 38 Pfs;0}h5  
    4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 nqf,4MR  
    4.5.2 材料庫 41 y8DhOlewQ  
    4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 12+>5BA  
    4.6  常用單位 43 Q1z;/A$Al  
    4.7  插值和外推法 46 oqeSG.1  
    4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 50 `ta7Gc/:UY  
    4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 KSrx[q  
    4.10  文檔的一般編輯規(guī)則 55 C/-63O_  
    4.11 撤銷和重做 56 l\n@cQR  
    4.12  設(shè)計(jì)文檔 57 `Ry]y"K  
    4.10.1  公式 58 k]I0o)+O.  
    4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 !e?.6% %   
    4.10.3  沉積密度 59 b4pm_Um  
    4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 y.Z?LCd<  
    4.10.5  漸變折射率和散射層 60 &/Q0  
    4.10.4  性能 61 o-Ga3i 8  
    4.10.5  保存設(shè)計(jì)和性能 64 <=,6p>Eo[  
    4.10.6  默認(rèn)設(shè)計(jì) 64 ny54XjtG,  
    4.11  圖表 64 x_dy~(*  
    4.11.1  合并曲線圖 67 `F>O;