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    [技術]用于AR/MR的光波導足跡分析 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-07-21
    HXa[0VOx  
    用于增強或混合現(xiàn)實應用的任何類型的光導系統(tǒng),其設計過程中的一個主要部分是用于輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴展器光柵區(qū)域的配置。為此,對光傳播以及發(fā)生的光柵相互作用進行快速而簡單的概述非常有幫助:足跡分析。借助足跡和光柵分析工具,VirtualLab提供了一個強大的工具,可在此過程中為光學工程師提供支持。在本文檔中,討論了這個多功能工具的選項和功能。 6i[Ts0H%<!  
    mp8GHV  
    [ @eA o>  
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    足跡和光柵分析工具 a ~v$ bNu  
     足跡和光柵分析工具是光導工具箱黃金版的一個特色。 R7Y_ 7@p  
     它可以在開始功能區(qū)的光導部分進行初始化。 =Nt HV4=b  
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    o4kLgY !Q  
    =Pl@+RgK+  
    操作工具的基本流程 +<1 |apS1  
    FYYc+6n  
    l e'RU1k  
    =o##z5j K  
    步驟1:選擇要分析的設置。它可以通過布局設計工具生成,詳見: 4]U=Y>\Sr  
    (&e!u{I  
    光導布局設計工具 SCcvU4`o  
    X vaIOt>A  
    但是請注意,足跡和光柵分析工具并不局限于特定的布局類型。您可以加載文件或直接從已經(jīng)打開的文檔中選擇一個文件。 L?[m$l!T}  
    &|k=mxox\  
    xx`YBn~"  
    * hs&^G  
    步驟2:定義該工具應該考慮的視場范圍。 0A) 0Zw  
        步驟3:單擊分析按鈕。關于分析進度的詳細信息將在按鈕下方的面板中提供。 Vn^GJ'^  
    oFU:]+.+D  
    理想和實際光柵結(jié)果 w{W+WJ  
    f=l/Fp}4UH  
    足跡和光柵分析工具的結(jié)果可以分為兩個方面: [Y](Y3