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    [產(chǎn)品]《JCMsuite案例解析》 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-08-04
    微納光學(xué)是當(dāng)前光學(xué)學(xué)科發(fā)展最活躍的前沿之一,結(jié)合了光子學(xué)與納米技術(shù)的前沿成果,主要優(yōu)點(diǎn)是能在局域電磁相互作用的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)許多全新的功能,成為21世紀(jì)不可或缺的關(guān)鍵科學(xué)和技術(shù)。微納光學(xué)不僅是光學(xué)領(lǐng)域的前沿研究方向之一,也是目前新型光電子產(chǎn)業(yè)的重要發(fā)展方向,在光通信、光互聯(lián)、光存儲(chǔ)、傳感成像、傳感測(cè)量、顯示、固體照明、生物醫(yī)學(xué)、安全、綠色能源等領(lǐng)域起到不可替代的作用。在這些廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域可以使用JCMsuite進(jìn)行模擬分析與設(shè)計(jì),大大降低時(shí)間成本和物料成本。 77OH.E|$  
    JCMsuite是基于有限元方法(FEM)的一款納米光學(xué)軟件包。使用有限元方法(FEM)計(jì)算復(fù)雜納米光學(xué)系統(tǒng)中電磁場(chǎng)分布,為解決科學(xué)和技術(shù)挑戰(zhàn)提供了一種通用、嚴(yán)格且非?焖俚姆椒。JCMsuite可以解決時(shí)諧麥克斯韋方程組的光散射問(wèn)題、波導(dǎo)設(shè)計(jì)問(wèn)題和光學(xué)共振問(wèn)題,以及線性彈性問(wèn)題、熱傳導(dǎo)問(wèn)題以及這些類(lèi)型的任何耦合問(wèn)題。 a Kb2:1EQ  
    通過(guò)JCMsuite,用戶(hù)可以定義各種材料特性,例如復(fù)雜和各向異性的材料的介電常數(shù)和磁導(dǎo)率張量、分散特性、導(dǎo)熱率和剛度。軟件依賴(lài)基于殘差的誤差估計(jì),自動(dòng)選擇各種數(shù)值設(shè)置,例如有限元度和PML(完全匹配層)設(shè)置。同時(shí)也特別關(guān)注光學(xué)上所有必要的后期處理和有效計(jì)算,例如傅立葉變換、遠(yuǎn)場(chǎng)、能量通量、重疊積分、光學(xué)成像、共振擴(kuò)展和賽爾因子。 4.7ePbk[E  
    本書(shū)詳細(xì)介紹了JCMsuite各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域的實(shí)操案例。本書(shū)共十一章,分別介紹了不同應(yīng)用領(lǐng)域的案例介紹,包含激光、掩模、散射測(cè)量、橢偏儀、光伏發(fā)電、表面等離子體、光纖、光學(xué)手性、衍射光學(xué)元件以及光子晶體。每個(gè)案例都涵蓋了建模流程,從材料定義、布局定義、光源定義到項(xiàng)目定義整個(gè)過(guò)程,旨在幫助JCMsuite初學(xué)者通過(guò)案例快速學(xué)會(huì)軟件。本書(shū)主要參考JCMwave公司發(fā)布的案例翻譯整理而成。 S@zsPzw  
    《JCMsuite案例指導(dǎo)書(shū)籍》,是由上海訊技光電工程部成員翻譯整理而來(lái),譯者希望本書(shū)能對(duì)JCMsuite的使用者有所幫助,通過(guò)學(xué)習(xí)后能較好的掌握J(rèn)CMsuite軟件的基本使用方法。由于譯者水平有限,書(shū)中錯(cuò)誤紕漏之處,敬請(qǐng)同行讀者批評(píng)和指正。 fw_V'l#\  
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    訊技光電科技(有限)公司
    2022年2月 上海 jd=k[Yqr  
    q]tPsX5{*  
    目錄 8J%^gy>m]  
    1.光源部分—引言 3 1P4jdp=~  
    1.1垂直腔面發(fā)射激光器 3 jjkiic+tDN  
    1.2高功率二極管激光器 7 ~;|  
    1.3量子點(diǎn)發(fā)射器 12 5-bd1!o  
    1.3.1微米柱 12 7,_N9Q]rB  
    1.3.1.1旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)發(fā)射器 14 u9e A"\s  
    1.3.2微透鏡 18 ?T70C9  
    1.3.2.1耦合至光纖 20 w/N.#s^  
    1.3.3二維模型 22 [,-MC7>]  
    2.光掩模 23 &-9wU Z  
    2.1衰減相移掩模 24 (eN\s98)/  
    2.1.1降基法 26 L!DP*XDp  
    2.2獨(dú)立的接觸孔 33 Y ,B0=}  
    2.3 EUV掩模 37 u%#bu^4"  
    2.4光學(xué)成像 42 ~d 7!)c`z  
    3.散射測(cè)量 43 DVRE