在傳統(tǒng)的Talbot光刻中,在光敏層中僅使用一個(gè)
圖像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通過傅立葉模態(tài)法(FMM,也稱為RCWA)在
VirtualLab Fusion中對(duì)具有一層圓錐體的相位掩模進(jìn)行了建模。探測得到不同的Talbot像,柱狀圖位于主像面上,孔狀圖位于次像面上。
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;Q&9t :I/9j=@1 建模任務(wù) j0oto6z~b ?`Mk$Y%my
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材料參數(shù)來自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
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