據俄羅斯下諾夫哥羅德策略發(fā)展機構公文，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所 (IPF RAS) 正在開發(fā)俄羅斯首套半導體光刻設備，并對外夸下�？冢哼@套光刻機能夠使用 7nm 生產芯片，可于 2028 年全面投產。 .n?5}s+q  
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據介紹，他們計劃在六年內制作出光刻機的工業(yè)原型，首先要在 2024 年開發(fā)一臺 alpha 機器。這一階段的重點不在于其工作或解決的高速性，而在于所有系統(tǒng)的全面性。 aMe%#cLI  
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然后，到 2026 年，alpha 應該被 Beta 所取代。屆時所有系統(tǒng)都將得到改進和優(yōu)化，分辨率也將得到提升，生產力也將提高，許多操作將實現(xiàn)機械自動化。這一階段重要的是要將其集成到實際的技術流程中，并通過“拉起”適合其他生產階段的設備對其進行調試。 3 ATN?V@  
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第三步也就是最后一步，將為光刻機帶來更強的光源、改進的定位和饋送系統(tǒng)，并使得這一套光刻系統(tǒng)能夠快速準確地工作。 Rt*-#`I $  
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據以往報道，俄羅斯目前已經可以生產 65nm 制程的芯片，該國此前宣布了一項國家計劃，希望在 2030 年開發(fā) 28nm 制程，希望靠著對外國芯片進行逆向工程，并培養(yǎng)當?shù)匕雽�體人才。 \Qe'?LRu{  
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俄羅斯科學院納米結構研究所副所長表示，全球光刻機領導者 ASML 近 20 年來一直致力于 EUV 曝光機，目標是讓世界頂尖半導體廠商保持極高的生產效率。但俄羅斯并不需要，只要根據俄羅斯國內的需求向前推進即可。 j(wY/Hl  
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從其他外媒的評價來看，俄羅斯的想法似乎太過天真，畢竟想在 6 年內僅憑自己研發(fā)出可媲美 ASML 十年積淀的光刻技術實在是有點難以令人相信，且晶圓廠并非光靠光刻機就可生產出芯片，還需要許多外圍設備，而俄羅斯并不滿足獨立生產這些設備的條件。 H{p[Ghp  
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值得一提的是，下諾夫哥羅德代表團還向大家展示了未來光刻設備的演示樣品。這套系統(tǒng)基于下諾夫哥羅德的 IAP RAS 開發(fā)、制造和安裝。不過他們自己也提到，這甚至不是設備原型，而是“原型的原型”。 %