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哪位大神來(lái)看看這個(gè)晶控設(shè)置監(jiān)控的問(wèn)題
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qq287909811
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發(fā)表于: 2023-02-10
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晶控
這個(gè)25秒是什么意思?是
說(shuō)明書
上說(shuō)的25秒后開(kāi)始監(jiān)控嗎?我感覺(jué)不是
+y&d;0!
Pl+xH%U+?
圖片:1675991535401.jpg
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coldking
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1樓
發(fā)表于: 2023-02-13
不穩(wěn)定的時(shí)間,一開(kāi)始不穩(wěn)定25秒後必須要穩(wěn)定,不然發(fā)警報(bào)?
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譚健
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ouyuu
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3樓
發(fā)表于: 2023-02-16
剛開(kāi)始鍍膜的時(shí)候,因?yàn)闊釠_擊水晶片的速率是不穩(wěn)的。
*'ZN:5%H
甚至因?yàn)樯郎剡^(guò)快會(huì)有負(fù)速率。所以需要一個(gè)時(shí)間來(lái)緩沖。
A^Cj1:,
1 W'F3
有一種辦法就是直接把鍍膜開(kāi)始后幾秒內(nèi)的膜厚清零,不知道是不是這種辦法。
l@~LV}BI
\#dl6:"
這個(gè)問(wèn)題,膜林的張博士是專家,他的答案應(yīng)該是最準(zhǔn)確的。
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morningtech
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4樓
發(fā)表于: 2023-02-17
版主抬舉了。
@q8an
我公司晶控儀里有一個(gè)最大功率延遲時(shí)間,在材料第4頁(yè)。
7*+TP~WI
它有兩個(gè)作用,
or?%-)
一是成膜開(kāi)始后,在此時(shí)間內(nèi),實(shí)際最大功率從預(yù)熔功率線性變化到設(shè)定的最大功率。抑制速率過(guò)沖用。
smU4jh9S
二是成膜開(kāi)始后,在此時(shí)間內(nèi),如果有負(fù)速率,則丟棄因此產(chǎn)生的負(fù)厚度。正?瓷先ハ窈穸惹辶。在配置參數(shù)里設(shè)置此功能是否使用。用于部分補(bǔ)償溫度等效應(yīng)引起的厚度偏差。 在有離子源輔助時(shí)會(huì)發(fā)現(xiàn)作用明顯,厚度一致性會(huì)提高。(這個(gè)丟棄的負(fù)厚度累積值作為內(nèi)部過(guò)程參數(shù)會(huì)出現(xiàn)在 探頭與接口界面,每層重新累積。在我公司 MXC-3 晶控儀里,可以在未關(guān)機(jī)的情況下,編程發(fā)串口指令讀取一定層數(shù)的負(fù)厚度記錄,僅作為當(dāng)時(shí)研究之用,沒(méi)有對(duì)外公布指令,有興趣的可以聯(lián)系)。
p25Fn`}H
另外,如果我公司晶控儀設(shè)置成計(jì)算機(jī)控制,其將作為單層膜控制器使用,材料1的參數(shù)成為開(kāi)機(jī)默認(rèn)材料參數(shù)。
|)U|:F/{@
'$m7ft}
但這是客戶計(jì)算機(jī)上的設(shè)置,內(nèi)部什么操作,我并不清楚。
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