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    [技術(shù)]使用特殊介質(zhì)的光柵結(jié)構(gòu)的配置 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-02-20
    光柵結(jié)構(gòu)廣泛用于多個(gè)應(yīng)用,如光譜儀、近眼顯示系統(tǒng)等。通過(guò)應(yīng)用傅里葉模態(tài)方法(FMM),VirtualLab Fusion以一種簡(jiǎn)單的方法提供了任意光柵結(jié)構(gòu)的嚴(yán)格分析。在光柵軟件包中,通過(guò)使用堆棧中的多個(gè)界面或/和介質(zhì)可以配置光柵結(jié)構(gòu)。用于設(shè)置堆棧的幾何結(jié)構(gòu)的用戶界面是友好型的,可以用于產(chǎn)生更加復(fù)雜的光柵結(jié)構(gòu)。在這個(gè)用例中,解釋了基于特殊介質(zhì)光柵結(jié)構(gòu)的配置。 Y{g[LG`U  
    w-P;E!gTt  
    q]#j,}cN9  
    h.4FY<  
    該用例展示了… 3,)[Q?nKD  
     在光柵工具箱中通過(guò)使用特殊介質(zhì)如何配置光柵結(jié)構(gòu),如: :Ny^-4-N  
    傾斜光柵介質(zhì) 9\!=i  
    體光柵介質(zhì) ;"JgNad  
     如何在計(jì)算前改變高級(jí)選項(xiàng)&檢查定義的結(jié)構(gòu) L3Ivm :  
    ?eDZ-u9)  
    MN[D)RKh;  
    EL(B XJrx{  
    光柵工具箱初始化 GsU.Lkf  
    .s\_H,  
    m*vz   
     初始化 dZuPR  
    開(kāi)始-> `Ln1g@  
    光柵-> <{IeCir  
    通用光柵光路圖 <$Dj ags,F  
     注意:對(duì)于特殊類(lèi)型光柵的使用,如體光柵,可以直接選擇特定的光路圖 d"OYq  
    光柵結(jié)構(gòu)設(shè)置 Wn&9R j  
     首先,需要定義基底(底座)材料和厚度 [BKOK7QK|  
     在VirtualLab中,光柵結(jié)構(gòu)在所謂的堆棧中定義 K&BaGrR  
     堆?梢怨潭ǖ交椎囊贿吇騼蛇 aEn*vun  
    gf70 O>E  
     這個(gè)例子中,第一個(gè)界面上的堆棧已經(jīng)選中 A@jBn6  
    gUH|?@f  
    堆棧編輯器 rm4t  
    lw _@(E]E  
    <4P.B?-/t  
    RmJ|g<  
    堆棧編輯器 Uj^Y\w-@Z  
    %e+{wU}w?2  
    py$i{v%  
    涂層傾斜光柵介質(zhì) ]-jaIvM  
    8 @r>`c  
     在目錄分類(lèi)“LightTrans定義”中,可以找到涂層傾斜光柵介質(zhì)。 pER[^LH_)  
     這種類(lèi)型的介質(zhì)可以使用具有或不具有額外涂層的傾斜光柵結(jié)構(gòu) c3(0BSv  
     在這個(gè)例子中,由熔融石英制成的光柵(具有含鉻的涂層)位于玻璃基質(zhì)上 u3\_![Jt?  
     在堆棧編輯器視圖中,不同的材料由基于他們折射率的其他顏色顯示(暗色意味折射率高) 2/ejU,S  
    zqxN/H]z  
    .p%V]Ka  
    j-zWckT{  
    涂層傾斜光柵介質(zhì) _mTNK^gB  
    f('##pND@  
    :PNhX2F  
    kW& zkE{  
    涂層傾斜光柵介質(zhì) 3`Dyrj#!  
     堆棧周期允許控制整個(gè)配置的周期 Z/LYTo$Bz  
     該周期同樣用于FMM算法的周期性邊界條件 qdo_YPG  
     在簡(jiǎn)單光柵結(jié)構(gòu)的案例中,推薦選擇選項(xiàng)“根據(jù)介質(zhì)周期“和選擇周期性介質(zhì)合適的折射率 >nO[5  
    ]L?WC  
    I5E+=.T*ar  
    ]F #0to  
    涂層傾斜光柵介質(zhì)參數(shù) h<i.Z7F;tj  
    G0(A~Q"  
    F41g