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01 說明 X5w$4Kj&4l #lO Mm9 此案例首先示范使用Lumerical 中STACK求解器的相關函數(shù)指令，優(yōu)化偶極子在疊層中的位置，接著計算單位立體角的功率，把仿真結果轉換成紅綠藍三色光源的能量角度分布。最后把結果轉成Zemax OpticStudio 光源格式，在Zemax OpticStudio 中視覺化任意OLED源陣列的遠場結果。 >8[Z. fX eszG0W u  MpOc ]I6 J7A[ 02 綜述 u$`a7Lp,n  !ubD/KE
在Lumerical 中我們會使用stackfield 函數(shù)來找偶極子最佳的位置，用stackdipole函數(shù)換算出遠場光場。最后把遠場光場帶入Zemax OpticStudio，可以觀察多個光源非相干的宏觀光場分布。 ,/U6[P_C5 rS Ni@;
有些OLED結構會使用散射結構來增加提取效率，但由于散射結構仿真比較耗費仿真資源，因此建議先優(yōu)化疊層結構之后再進行散射相關優(yōu)化。 >.D4co> _','9|
A?0Nm{O;3v 步驟1：確定發(fā)光層中的偶極子位置 #s9aI_ 2+WaA ,
使用stackfield函數(shù)可以獲得由平面波注入的多層堆棧內(nèi)的電場配置檔案。最佳偶極子位置是發(fā)光層區(qū)域的最大電場處，以提高自發(fā)輻射速率。 CU~PT. -7|H}!DFT
參考文獻[1] 中的介電堆棧幾何形狀由六層組成，折射率分別為1.5 ：2.13 ：1.87 ：1.94 ：1.75 ：0.644+5.28i，如下所示。雖然FDTD仿真和stackfield函數(shù)都可用于計算此幾何體內(nèi)的電場分布，但stackfield函數(shù)對于多層幾何形狀的效率要高得多，尤其是在需要大量仿真時。 iJ|uvPCE  O.JN ENZf fd9k?,zM
J,6yYIq stackfield函數(shù)的輸入包含層的折射率、厚度，以及源波長和入射角。這相當于執(zhí)行一維模擬（一個網(wǎng)格單元沿著x軸和y軸），平面波源沿著z軸移動。相應完整腳本請查看官網(wǎng)案例 T6kdS]4-  @KUWxFak ABYcH]m 步驟2：計算單位立體角的功率 >C~6\L`c 8JUwf
官網(wǎng)案例的腳本文件將使用 stackdipole 函數(shù)計算 OLED 堆棧的紅、綠和藍色發(fā)射光譜遠場功率密度（見下圖）。我們使用位于有源區(qū)中心的單個非極化偶極子來提取所有三種光頻率的功率密度。此結果用于生成 3 個射線集并保存為可導入 OpticStudio 的.dat格式。如下圖所示，紅色像素顯示大視角處每單位立體角的功率較大，即常見的大視角偏紅現(xiàn)象。 .o}v#W+st {7 pli{`
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