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摘要 E_`=7i m kexc~l 仿真技術(shù)的主要作用之一是提供一個(gè)平臺(tái),以便在系統(tǒng)制造之前研究系統(tǒng)的性能,以便盡可能多地預(yù)防潛在的缺陷。雜散光是影響系統(tǒng)性能的最常見現(xiàn)象之一,雜散光可能有多個(gè)來源,其中包括系統(tǒng)中的內(nèi)部偽反射。在這個(gè)用例中,我們分析了高Na激光二極管準(zhǔn)直透鏡系統(tǒng)中這種反射的存在,我們模擬了產(chǎn)生的鬼像對(duì)探測(cè)場(chǎng)的影響(由主準(zhǔn)直光束的干涉引起的同心環(huán)圖案和由雜散光產(chǎn)生的二次發(fā)散),并確定需要在透鏡系統(tǒng)的關(guān)鍵表面上涂上抗反射涂層。 #/]nxW.S g=rbPbu liSmjsk r/1(]#kOX 建模任務(wù) \Cj B1]I o(HbGHIP Y ay?=Y{
Z]ONh 3sk9`=[{$ 準(zhǔn)直系統(tǒng) K%d&EYoW] =QsYXK7Mn4 v2?ZQeHr_( Xeajxcop# 非序列追跡 /E>e"tvss 6nQq
*](iS he4(hX^ 總結(jié)—元件… *8Z32c+C M_8{]uo g5yJfRLxp a
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$C\BcKlmv yjAL\U7`T 系統(tǒng)光線追跡結(jié)果 5m*,8
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