《光學(xué)光刻和極紫外光刻》是一本最新的光刻技術(shù)專著，內(nèi)容涉及該領(lǐng)域的各個(gè)重要方面。在介紹光刻技術(shù)應(yīng)用上，涵蓋了全面又豐富的內(nèi)容；在論述光刻技術(shù)的物理機(jī)制和數(shù)學(xué)模型時(shí)，采用了完整而不繁瑣的方法，增加了可讀性。本書在系統(tǒng)地闡述了光學(xué)光刻技術(shù)的基本內(nèi)容后，還專門開辟章節(jié)，介紹了最先進(jìn)的極紫外光刻技術(shù)的特點(diǎn)和難點(diǎn)，揭示了極紫外光刻的技術(shù)奧秘。本書具有全面、完整、翔實(shí)和新穎的特點(diǎn)，它凝聚了作者三十多年光刻領(lǐng)域科研和教學(xué)的精華。 YbP}d&L  
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第1章光刻工藝概述 XA
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1.1微型化：　從微電子到納米技術(shù)_1 AqjEz+TVt  
1.2光刻技術(shù)的發(fā)展史_3 |k=5`WG  
1.3投影光刻機(jī)的空間成像_5 L?r\J8Ch<  
1.4光刻膠工藝_10 J9XV:)Yv#  
1.5光刻工藝特性_12 >(eR0.x  
1.6小結(jié)_18 qaEWK0  
參考文獻(xiàn)_18 e4Xo(EY &  
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第2章投影光刻的成像原理 ./Wi(p{F  
2.1投影光刻機(jī)_20 I_On0@%T5b  
2.2成像理論_21 7` IO mTk  
2.2.1傅里葉光學(xué)描述_21 3Qu Ft~@@  
2.2.2傾斜照明與部分相干成像_26 jQY^[A  
2.2.3其他成像仿真方法_30 A:,R.P>`C  
2.3阿貝瑞利準(zhǔn)則及其影響_30 8|-064i>  
2.3.1分辨率極限和焦深_31 Y$N D  
2.3.2影響_36 vL~j6'  
2.4小結(jié)_39 `(pe#Xxn  
參考文獻(xiàn)_39 A?Gk8  
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第3章光刻膠 &1ss @-  
3.1光刻膠概述、常規(guī)反應(yīng)原理和現(xiàn)象學(xué)描述_42 |n\(I$  
3.1.1光刻膠的分類_42 SAGECK[Ix  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻膠_45 O%rt7qV"g2  
3.1.3先進(jìn)的正型化學(xué)放大光刻膠_46 n^k Uu2g|  
3.1.4現(xiàn)象學(xué)模型_48 e(Ub7
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3.2光刻膠工藝步驟和建模方法_50 bb"x^DtT  
3.2.1技術(shù)方面_50 -mqTlXM  
3.2.2曝光_51 
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3.2.3曝光后烘焙_54 JU