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時(shí)間地點(diǎn)：[/td][/tr][tr][td=2,1] L/_OgL]YdI  
主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司； 蘇州黌論教育咨詢有限公司 >s1'I:8  
授課時(shí)間： 2023年6月9日（五）-11日（日）  AM 9:00-PM 16:00 r~si:?6:  
授課地點(diǎn)：上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)中暨大廈18樓1805室 bYYyXM  
課程講師：訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問(wèn) )K4 |-<i  
課程費(fèi)用：4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開(kāi)票稅金、午餐費(fèi)用)[/td][/tr][tr][td=2,1]課程概要：[/td][/tr][tr][td=2,1] ?R&,1~h  
當(dāng)收到需求者的光學(xué)規(guī)格及非光學(xué)規(guī)格如環(huán)境測(cè)試要求時(shí)，既可以著手選用所需的基板，鍍膜材料及膜數(shù)與厚度設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)開(kāi)始可以從標(biāo)準(zhǔn)膜系著手，例如高反射鏡不管波寬大小，開(kāi)始我們一定是以四分之一波膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)，倘若是截止濾光片，則應(yīng)以對(duì)稱膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)。當(dāng)初始設(shè)計(jì)無(wú)法滿足要求時(shí)，我們需要考慮商業(yè)軟件或自行設(shè)計(jì)電腦軟件來(lái)參與合成或優(yōu)化，設(shè)計(jì)好之后，即刻進(jìn)行制造成功率分析，亦看膜層厚度的誤差值的容許度，若是鍍膜機(jī)的精密度做不到，則要修改設(shè)計(jì)，重新分析直達(dá)合格為止。 w<lHY=z E  
透明塑料基板質(zhì)輕價(jià)廉，而且容易成型為非球面透鏡，被廣泛采用在光學(xué)系統(tǒng)中，如眼睛鏡片、相機(jī)透鏡、手機(jī)鏡頭、及顯示器面板，如OLED，近眼顯示應(yīng)用。但塑性及軟性基板的低密度致使其具有吸水性，從而使薄膜與基板的附著性不佳。再者這些塑料基板比較柔軟、容易刮傷、需要鍍上硬膜保護(hù)。因此塑料透鏡的鍍膜除了抗反射，還要兼具免受刮傷的保護(hù)。本課程會(huì)從這些方面重點(diǎn)闡述塑料基底的鍍制工藝及其物理特性。 2n2{Oy>L  
該課程一天會(huì)全面講解光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macelod的操作方法，第二天和第三天會(huì)講解薄膜設(shè)計(jì)和工藝上面的應(yīng)用。[/td][/tr][tr][td=2,1][/td][/tr][tr][td=2,1]課程大綱：[/td][/tr][tr][td=1,1,554] 
Sdy\s5  
1. Essential Macleod軟件介紹 YrS%Yvhj0  
1.1 介紹軟件 pkWzaf  
1.2 運(yùn)行程序 `Jq ?+W  
1.3 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì) %J!+f-:=  
1.4 繪圖和制表來(lái)表示性能 :lcZ)6&S  
1.5 3D繪圖-用兩個(gè)變量繪圖表示性能 9_n!.zA<  
1.6 創(chuàng)建一個(gè)默認(rèn)設(shè)計(jì) fq~<^B  
1.7 文件位置 zC\ pd#  
1.8 通過(guò)剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù) L6fc_Mo.EE  
1.9 約定-程序中使用的各種術(shù)語(yǔ)的定義 loZJV M  
1.10厚度（物理厚度，光學(xué)厚度[FWOT,QWOT]，幾何厚度） jV;&*4if  
1.11 單位定義  !NUsfd  
1.12 軟件如何進(jìn)行數(shù)據(jù)插值 ;X[mfg\  
1.13 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） Hc ]/0:  
1.14 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù) ]!E|5=q  
1.15 交互式繪圖 #(mm6dj  
2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ) )cbe4  
2.1 介質(zhì)和波 ==
F[5]?  
2.2 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 y]xG@;4M  
2.3 傾斜入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 ^,]'Ut  
2.4 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響 \Azl6`Em  
2.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)理論 ]rO`eN[~U  
3. 理論技術(shù) (30{:o&^  
3.1 參考波長(zhǎng)與g UN>!#Ji:$  
3.2 四分之一規(guī)則 OW<i"?0  
3.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 {'4h.PB+r  
3.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納 0K <@?cI  
3.5 對(duì)稱周期 RY2`v pv  
4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì) 1a;Le8  
4.1 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展 <03